关闭预览GB/T 6610.2-2003 氢氧化铝化学分析方法 重量法测定灼烧失量
GB/T 6610.2-2003 Chemical analysis methods of aluminium hydroxide—Determination of the loss of mass at 1100℃—Gravimetric method
国家标准
中文简体
废止转行标
页数：8页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 6610.2-2003
相关服务
仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
废止转行标
中国标准分类号（CCS）
H12 氢氧化铝化学分析方法 重量法测定灼烧失量
国际标准分类号（ICS）
71.060.40
发布日期
2003-11-03
实施日期
2004-05-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
-
发布历史
-
2004-05
文前页预览
免费预览已结束，剩余部分可下载查看
研制信息
- 起草单位：
- 中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所
- 起草人：
- 钟沂妹、王家庭、屈谓年
- 出版信息：
- 页数：8页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开
推荐标准
- GB/T 6610.3-2003 氢氧化铝化学分析方法 钼蓝光度法测定二氧化硅含量 2003-11-03
- GB/T 6610.4-2003 氢氧化铝化学分析方法 邻二氮杂菲光度法测定三氧化二铁含量 2003-11-03
- GB/T 6610.5-2003 氢氧化铝化学分析方法 氧化钠含量的测定 2003-11-03
- GB/T 6611-1986 钛及钛合金术语 1986-07-24
- GB/T 6611-2008 钛及钛合金术语和金相图谱 2008-06-09
- GB/T 6614-1994 钛及钛合金铸件 1994-05-09
- GB/T 6614-2014 钛及钛合金铸件 2014-09-03
- GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法 1995-04-18
- GB/T 6616-2009 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法 2009-10-30
- GB/T 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法 2023-08-06
