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GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

GB/T 24580-2009 Test method for measuring Boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry

国家标准 中文简体 现行 页数：12页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 24580-2009
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H80 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
国际标准分类号（ICS）
29.045
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
适用范围
-

发布历史

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GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
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研制信息

起草单位：
信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所
起草人：
马农农、何友琴、丁丽
出版信息：
页数：12页 | 字数：13 千字 | 开本： 大16开

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