齐齐文库
登录
齐齐文库
下载此文档
关闭预览
  1. 当前位置：
  2. 首页 >
  3. 中国国家标准 >
  4. GB/T 24582-2023

GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定　酸浸取-电感耦合等离子体质谱法

GB/T 24582-2023 Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method

国家标准 中文简体 现行 页数：12页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 24582-2023
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H17 多晶硅表面金属杂质含量测定　酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
国际标准分类号（ICS）
77.040
发布日期
2023-08-06
实施日期
2024-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

文前页预览

GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定　酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定　酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定　酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
免费预览已结束，剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位：
亚洲硅业(青海)股份有限公司、内蒙古通威高纯晶硅有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、青海芯测科技有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、洛阳中硅高科技有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、江苏鑫华半导体科技股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司
起草人：
尹东林、郑连基、刘军、魏东亮、蔡延国、李素青、侯海波、田洪先、刘文明、薛心禄、王彬、于生海、徐岩、曹岩德、姜士兵、邱艳梅、赵培芝、万首正、赵娟龙、申梅桂、刘海月、王春明
出版信息：
页数：12页 | 字数：13 千字 | 开本： 大16开

推荐标准

相似标准推荐

更多>