GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
GB/T 14849.4-2014 Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of impurity contents—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
国家标准
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现行
页数:16页
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基本信息
标准号
GB/T 14849.4-2014
相关服务
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标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
H12 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
国际标准分类号(ICS)
77.120.10
发布日期
2014-12-05
实施日期
2015-08-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
适用范围
-
发布历史
-
2008-12
-
2015-08
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研制信息
- 起草单位:
- 昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司
- 起草人:
- 刘维理、王劲榕、李跃平、赵德平、杨毅、赵建为、王云舟、王宏磊、聂长虹、刘英波、卢国洪、吴豫强、张云晖、谭少姬、程志武、周杰
- 出版信息:
- 页数:16页 | 字数:19 千字 | 开本: 大16开
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