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GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法　第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

GB/T 14849.4-2008 Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

国家标准 中文简体 被代替 页数：8页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 14849.4-2008
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
被代替
中国标准分类号（CCS）
H17 工业硅化学分析方法　第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
国际标准分类号（ICS）
77.120.10
发布日期
2008-06-09
实施日期
2008-12-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
-

发布历史

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GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法　第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法　第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法　第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
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研制信息

起草单位：
中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所
起草人：
李跃平、石磊、张树朝、张洁、吴豫强、周兵、姜伟、金建华、刘双庆、牟利娟、张艾芬
出版信息：
页数：8页 | 字数：9 千字 | 开本： 大16开

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