齐齐文库
登录
齐齐文库
下载此文档
关闭预览

GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法

GB/T 13388-2009 Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques

国家标准 中文简体 现行 页数:12页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 13388-2009
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
H80 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
国际标准分类号(ICS)
29.045
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
适用范围
-

发布历史

文前页预览

GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
免费预览已结束,剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位:
有研半导体材料股份有限公司
起草人:
孙燕、卢立延、杜娟、翟富义、高玉锈
出版信息:
页数:12页 | 字数:17 千字 | 开本: 大16开

推荐标准