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GB/T 20176-2025 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

GB/T 20176-2025 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

国家标准 中文简体 即将实施 页数:24页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 20176-2025
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
即将实施
中国标准分类号(CCS)
G04 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
国际标准分类号(ICS)
71.040.40
发布日期
2025-06-30
实施日期
2026-01-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC 608)
适用范围
-

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GB/T 20176-2025 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2025 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
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研制信息

起草单位:
清华大学、中国地质大学(北京)、中国矿业大学(北京)、中国人民公安大学、北京大学、中山大学、中国工程物理研究院材料研究所
起草人:
李展平、郭冲、王梦琴、和平、王富芳、刘兆伦、郎玉博、李芹、张硕、刘可心、吴美璇、陈建、伏晓国
出版信息:
页数:24页 | 字数:30 千字 | 开本: 大16开