齐齐文库
登录
齐齐文库
下载此文档
关闭预览

GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

GB/T 20176-2006 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

国家标准 中文简体 现行 页数:20页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 20176-2006
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
N33 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
国际标准分类号(ICS)
71.040.40
发布日期
2006-03-27
实施日期
2006-11-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微束标准化技术委员会
适用范围
-

文前页预览

GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
免费预览已结束,剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位:
清华大学电子工程系
起草人:
查良镇、陈旭、黄雁华、王光普、黄天斌、刘林、葛欣、桂东
出版信息:
页数:20页 | 字数:32 千字 | 开本: 大16开