关闭预览GB/T 19444-2025 硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法
GB/T 19444-2025 Test method for oxygen precipition characteristics of silicon wafers—Interstitial oxygen reduction
国家标准
中文简体
即将实施
页数：12页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
GB/T 19444-2025
相关服务
仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
即将实施
中国标准分类号（CCS）
H21 硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法
国际标准分类号（ICS）
77.040
发布日期
2025-06-30
实施日期
2026-01-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-
发布历史
-
2004-07
-
2026-01
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研制信息
- 起草单位：
- 麦斯克电子材料股份有限公司、浙江中晶科技股份有限公司、隆基绿能科技股份有限公司、内蒙古中环晶体材料有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、山东有研艾斯半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、浙大宁波理工学院
- 起草人：
- 方丽霞、陈卫群、姚献朋、黄笑容、寇文辉、王新社、郭红强、刘丽娟、肖世豪、朱晓彤、张海英、王江华、尚海波、章金兵
- 出版信息：
- 页数：12页 | 字数：13 千字 | 开本： 大16开
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