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YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

YS/T 935-2013 Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications

行业标准 中文简体 现行 页数：8页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
YS/T 935-2013
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
行业标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H68 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
国际标准分类号（ICS）
77.150.99
发布日期
2013-10-17
实施日期
2014-03-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
适用范围
-

发布历史

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YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
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研制信息

起草单位：
有研亿金新材料股份有限公司
起草人：
张涛、何金江、丁照崇、万小勇、徐建卫、廖赞、尚再艳、王欣平、熊晓东、吕保国
出版信息：
页数：8页 | 字数：6 千字 | 开本： 大16开

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