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YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材　光学薄膜用铌靶

YS/T 718-2009 Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating

行业标准 中文简体 现行 页数：8页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
YS/T 718-2009
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
行业标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H63 平面磁控溅射靶材　光学薄膜用铌靶
国际标准分类号（ICS）
77.150.99
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
-

发布历史

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YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材　光学薄膜用铌靶
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材　光学薄膜用铌靶
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研制信息

起草单位：
利达光电股份有限公司
起草人：
李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
出版信息：
页数：8页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开

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