关闭预览YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
YS/T 719-2009 Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
行业标准
中文简体
现行
页数：8页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
YS/T 719-2009
相关服务
仅限个人学习交流使用
标准类型
行业标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H63 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
国际标准分类号（ICS）
77.150.99
发布日期
2009-12-04
实施日期
2010-06-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
适用范围
-
发布历史
-
2010-06
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研制信息
- 起草单位：
- 利达光电股份有限公司
- 起草人：
- 李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
- 出版信息：
- 页数：8页 | 字数：7 千字 | 开本： 大16开
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