齐齐文库
登录
齐齐文库
关闭预览
  1. 当前位置：
  2. 首页 >
  3. 中国国家标准 >
  4. GB/T 43313-2023

GB/T 43313-2023 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试　共焦点微分干涉法

GB/T 43313-2023 Test method for surface quality and micropipe density of polished silicon carbide wafers—Confocal and differential interferometry optics

国家标准 中文简体 现行 页数：12页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 43313-2023
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H21 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试　共焦点微分干涉法
国际标准分类号（ICS）
77.040
发布日期
2023-11-27
实施日期
2024-06-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

文前页预览

GB/T 43313-2023 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试　共焦点微分干涉法
GB/T 43313-2023 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试　共焦点微分干涉法
GB/T 43313-2023 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试　共焦点微分干涉法
免费预览已结束，剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位：
中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东天岳先进科技股份有限公司、常州臻晶半导体有限公司、湖州东尼半导体科技有限公司、厦门坤锦电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、广东天域半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、中国科学院半导体研究所、TCL环鑫半导体(天津)有限公司、浙江东尼电子股份有限公司
起草人：
姚康、刘立娜、何烜坤、李素青、马春喜、高飞、张红岩、陆敏、郑红军、房玉龙、芦伟立、丁雄杰、刘薇、李嘉炜、晏阳、钮应喜、杨玉聪、黄树福
出版信息：
页数：12页 | 字数：15 千字 | 开本： 大16开

推荐标准

相似标准推荐

更多>