关闭预览YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 819-2012 High-purity sputtering copper target used in electronic film
行业标准
中文简体
现行
页数：12页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
YS/T 819-2012
相关服务
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标准类型
行业标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H62 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
国际标准分类号（ICS）
77.150.30
发布日期
2012-11-07
实施日期
2013-03-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
适用范围
-
发布历史
-
2013-03
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研制信息
- 起草单位：
- 宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
- 起草人：
- 王学泽、宋佳、高岩、尚再燕、赵永善、袁洁、熊晓东
- 出版信息：
- 页数：12页 | 字数：13 千字 | 开本： 大16开
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