关闭预览YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
YS/T 1025-2015 High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
行业标准
中文简体
现行
页数：12页
|
格式：PDF
基本信息
标准号
YS/T 1025-2015
相关服务
仅限个人学习交流使用
标准类型
行业标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H63 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
国际标准分类号（ICS）
77.150.99
发布日期
2015-04-30
实施日期
2015-10-01
发布单位/组织
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
适用范围
-
发布历史
-
2015-10
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研制信息
- 起草单位：
- 宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司
- 起草人：
- 姚力军、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海军、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路
- 出版信息：
- 页数：12页 | 字数：18 千字 | 开本： 大16开
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