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GB/T 42905-2023 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法

GB/T 42905-2023 Test method for thickness of silicon carbide epitaxial layer—Infrared reflectance method

国家标准 中文简体 现行 页数:12页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 42905-2023
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
H21 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
国际标准分类号(ICS)
77.040
发布日期
2023-08-06
实施日期
2024-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

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GB/T 42905-2023 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
GB/T 42905-2023 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
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研制信息

起草单位:
安徽长飞先进半导体有限公司、安徽芯乐半导体有限公司、河北普兴电子科技股份有限公司、广东天域半导体股份有限公司、南京国盛电子有限公司、浙江芯科半导体有限公司、布鲁克(北京)科技有限公司、中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司
起草人:
钮应喜、刘敏、袁松、赵丽霞、丁雄杰、吴会旺、仇光寅、李素青、李京波、张会娟、赵跃、彭铁坤、雷浩东、闫果果
出版信息:
页数:12页 | 字数:15 千字 | 开本: 大16开