齐齐文库
登录
齐齐文库
下载此文档
关闭预览

GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

GB/T 42789-2023 Test method for gloss of silicon wafer

国家标准 中文简体 现行 页数:12页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 42789-2023
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
H21 硅片表面光泽度的测试方法
国际标准分类号(ICS)
77.040
发布日期
2023-08-06
实施日期
2024-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

文前页预览

GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法
GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法
GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法
免费预览已结束,剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位:
浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技(衢州)有限公司
起草人:
梁兴勃、李琴、张海英、林松青、潘金平、李素青、张雪囡、由佰玲、边永智、庄智慧、沈辉辉、焦二强、韩云霄、徐志群、付明全、詹玉峰、王可胜
出版信息:
页数:12页 | 字数:17 千字 | 开本: 大16开