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GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环

GB/T 41652-2022 Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine

国家标准 中文简体 现行 页数：12页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 41652-2022
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H82 刻蚀机用硅电极及硅环
国际标准分类号（ICS）
29.045
发布日期
2022-07-11
实施日期
2023-02-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

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GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
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研制信息

起草单位：
有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司
起草人：
库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平
出版信息：
页数：12页 | 字数：17 千字 | 开本： 大16开

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