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GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定　二次离子质谱法

GB/T 41153-2021 Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry

国家标准 中文简体 现行 页数：8页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 41153-2021
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H17 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定　二次离子质谱法
国际标准分类号（ICS）
77.040
发布日期
2021-12-31
实施日期
2022-07-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

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GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定　二次离子质谱法
GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定　二次离子质谱法
GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定　二次离子质谱法
GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定　二次离子质谱法
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研制信息

起草单位：
中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司
起草人：
马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩
出版信息：
页数：8页 | 字数：14 千字 | 开本： 大16开

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