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GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试　光学反射法

GB/T 40279-2021 Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method

国家标准 中文简体 现行 页数：12页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 40279-2021
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H21 硅片表面薄膜厚度的测试　光学反射法
国际标准分类号（ICS）
77.040
发布日期
2021-08-20
实施日期
2022-03-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

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GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试　光学反射法
GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试　光学反射法
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研制信息

起草单位：
有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技(上海)有限公司、开化县检验检测研究院
起草人：
徐继平、宁永铎、卢立延、孙燕、张海英、由佰玲、潘金平、李扬、胡晓亮、张雪囡、楼春兰、盘健冰
出版信息：
页数：12页 | 字数：18 千字 | 开本： 大16开

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