齐齐文库
登录
齐齐文库
下载此文档
关闭预览

GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法

GB/T 29507-2013 Test method for measuring flatness,thickness and total thickness variation on silicon wafers—Automated non-contact scanning

国家标准 中文简体 现行 页数:16页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 29507-2013
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
H80 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
国际标准分类号(ICS)
29.045
发布日期
2013-05-09
实施日期
2014-02-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
适用范围
-

文前页预览

GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
免费预览已结束,剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位:
上海合晶硅材料有限公司、有研半导体材料股份有限公司
起草人:
徐新华、王珍、孙燕、曹孜
出版信息:
页数:16页 | 字数:24 千字 | 开本: 大16开