GB/T 28275-2012 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
GB/T 28275-2012 Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for KOH etch process
国家标准
中文简体
现行
页数:12页
|
格式:PDF
基本信息
标准号
GB/T 28275-2012
相关服务
仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
L55 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
国际标准分类号(ICS)
31.200
发布日期
2012-05-11
实施日期
2012-12-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
适用范围
-
发布历史
-
2012-12
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研制信息
- 起草单位:
- 中国科学院上海微系统与信息技术研究所、重庆大学、东南大学、中国电子科技集团第四十九研究所、中机生产力促进中心
- 起草人:
- 夏伟锋、熊斌、冯飞、戈肖鸿、周再发、李玉玲、贺学锋、田雷、刘伟
- 出版信息:
- 页数:12页 | 字数:16 千字 | 开本: 大16开
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