齐齐文库
登录
齐齐文库
下载此文档
关闭预览

GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法

GB/T 26070-2010 Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method

国家标准 中文简体 现行 页数:16页 | 格式:PDF

基本信息

标准号
GB/T 26070-2010
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号(CCS)
H17 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
国际标准分类号(ICS)
77.040.99
发布日期
2011-01-10
实施日期
2011-10-01
发布单位/组织
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

文前页预览

GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
免费预览已结束,剩余部分可下载查看

研制信息

起草单位:
中国科学院半导体研究所
起草人:
陈涌海、赵有文、提刘旺、王元立
出版信息:
页数:16页 | 字数:21 千字 | 开本: 大16开