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GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定　全反射X射线荧光光谱法

GB/T 24578-2024 Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers—Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy

国家标准 中文简体 现行 页数：20页 | 格式：PDF

基本信息

标准号
GB/T 24578-2024
相关服务
  仅限个人学习交流使用
标准类型
国家标准
标准状态
现行
中国标准分类号（CCS）
H21 半导体晶片表面金属沾污的测定　全反射X射线荧光光谱法
国际标准分类号（ICS）
77.040
发布日期
2024-07-24
实施日期
2025-02-01
发布单位/组织
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
适用范围
-

发布历史

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GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定　全反射X射线荧光光谱法
GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定　全反射X射线荧光光谱法
GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定　全反射X射线荧光光谱法
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研制信息

起草单位：
有研半导体硅材料股份公司、天通银厦新材料有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、北京通美晶体技术股份有限公司、深圳牧野微电子技术有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、广东天域半导体股份有限公司、江苏华兴激光科技有限公司、江苏芯梦半导体设备有限公司、哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司、深圳市深鸿盛电子有限公司、深圳市晶导电子有限公司、湖南德智新材料有限公司
起草人：
宁永铎、孙燕、贺东江、李素青、朱晓彤、康森、靳慧洁、孙韫哲、潘金平、任殿胜、张海英、何凌、丁雄杰、刘薇、沈演凤、廖周芳、赵丽丽、张西刚、赖辉朋、廖家豪
出版信息：
页数：20页 | 字数：25 千字 | 开本： 大16开

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